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CMP 폴리싱 세라믹 블록 반도체 소모품 ISO9001

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x제품 상세 정보
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제품 설명
세라믹 블록은 고온 경화로 고순도 및 초미세 알루미나 분자로 만들어집니다.
주요 특징
높은 순수성, 더 적은 불순물, 높은 경화, 착용 저항성 및 부식 저항성.
높은 정밀도, 작은 열 팽창 계수 및 좋은 정확성 유지, 좋은 마모 저항 및 부식 저항.
적용
주로 LED 기판 및 반도체 웨이퍼 (사피어 웨이퍼, SiC 웨이퍼, 실리콘 웨이퍼, 게르메늄 웨이퍼, GaAs 웨이퍼, GaN 웨이퍼 등) 의 희석, 하드 폴리싱 및 CMP 폴리싱에 사용됩니다.
사양